西安高低温恒定湿热试验箱

真空烘箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空烘箱的特点。 一、真空程序分段控制 该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，只需根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。相当大可实现18段抽真空和保压编程。 二、操作步骤 1.接通电源； 2.产品送入腔体，关门； 3.打开电源； 4.工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态； 5.真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段； 6.到达时间值后，真空泵自动关闭。合肥真萍科技试验箱值得推荐。西安高低温恒定湿热试验箱

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。 1.内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm; 2.载物托架：2块 3.室温+10℃-250℃ 控温范围：温度分辨率：0.1℃ 温度波动度：±0.5℃ 4.真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa， 5.加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态） 6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。 7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为 常规降温）。成都大试验箱试验箱选购应该注意哪些呢？合肥真萍科技告诉您。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。   增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex 阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。 1.2.3寸 LED 大屏幕数字显示湿度/温度。 2.温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。 3.温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。 4.湿度控制： 4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。 4.2湿度在1％-60％RH 可调整。合肥真萍科技为您提供各种质量试验箱。

下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的技术指标。 1.机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2.箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3.微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4.智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。 5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。试验箱怎么选？合肥真萍科技告诉您。高低温低压试验箱报价

试验箱哪家好，推荐合肥真萍科技。西安高低温恒定湿热试验箱

隧道炉适用于五金模具、航天航空、纳米材料、精密陶瓷、粉末治金、铁氟龙喷涂、五金、锂电池、化工、运动器材、汽车零配件、电机、化工、工业之烘烤、干燥、预热回火、退火、老化等用途。下面为大家介绍一下真萍科技隧道炉的技术参数。 1.送风方式：强制送风循环系统。 2.温度范围：RT+10℃~300℃。 3.温度精度：±1℃ 4.温度均匀性：±1℃ 5.温控装置：富士智能PID温控仪，LED数字显示，PID自动演算及定时。 6.材质：内胆不锈钢，外箱体钢板静电喷塑。 7.传送方式：链杆、链网、自动锟轮，相当强承重。 8.特制复合式电加热器。 9.保护装置：漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。西安高低温恒定湿热试验箱